洁净灌装净化车间运行操作：
空调洁净车间运行前需检查车间的各回风口是否畅通、车间的门是否关闭、车间内的清洁卫生是否干净。检查合格后方能启动运行。
1、打开风机箱电源开关；
2、开风机后，注意风机空调机运转是否正常；
3、开机后观察洁净车间内的压差计与室外是否保持≥10Pa正压风量；
4、开机30分钟后，洁净灌装车间车间可进行正常工作；
5、洁净厂房停止运行前，工作人员必须做好清洁工作；人员下班时关好所有门及物流通道口，同时打开紫外线杀菌灯20-30分钟左右；
6、关闭风机箱电源开关；
7、操作人员检查所有电源开关是否全部关闭。
洁净室中的温湿度控制：
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。
具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。
湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产蕞佳温度范围为35—45%。
吹淋方式要达到理想的除尘效果会受到很多因素的制约和影响。
1、增加吹淋时间，不锈钢风淋室一般都设置在洁净区域的入口处，尤其在上班高峰时需要进入大量的人员，对一次进入不锈钢风淋室的员工也不可能给予足够多的时间来吹淋。一味的增加吹淋时间，并不能提高相应的除尘效果。
2、提示员工在吹淋时转动并拍打身体等，从使用的效果来看也是经济和有效的，但由于很多使用不锈钢风淋室的洁净车间，存在着各种客观因素，例如使用者常常躲避气流或者缩短吹淋时间;不愿配合转动身体或抖动衣服;一次进入过多的人员等，也对其使用效果受到很大的影响。
以上信息由专业从事十级防爆净化公司设计的晴朗净化于2025/7/22 14:34:21发布
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